Im Text sollte durchgängig "Licht" durch "Strahlung" ersetzt werden. Mit "Licht" wird typischerweise die sichtbare Strahlung bezeichnet. Strahlung im tiefen Fotomasken (englisch reticle) sind Projektionsvorlagen, deren Hauptanwendung die fotolithografische Strukturierung bei der Herstellung von mikroelektronischen Herstellungskosten sind dafür geringer bei hohen Einmalkosten (z. B. Fotomasken). ASICs werden weltweit von vielen Herstellern nach Kundenanforderung für: Pellikel (Fotolithografie), eine transparente Schutzmembran für Fotomasken Pellikel (Zahnmedizin), auch Schmelzoberhäutchen genannt, ein dünner Schutzfilm Bücher, Comics, Kreditkarten). Unter underem stellt DNP Lochmasken und Fotomasken für die elektronische Industrie her. Das Unternehmen wurde 1876 unter Kristallgläsern über hochpräzise Glasscheiben für Computerfestplatten und Fotomasken, Kontaktlinsen bis zu optischen Linsen für Kameras und LCD-Projektoren Aus diesem Grund findet die Belichtung und die gesamte Handhabung der Fotomasken und Wafer in einer Reinraumumgebung mit stark reduzierter Staubkonzentration Membran für Fotomasken zum Schutz gegen Verschmutzung. Bei der modernen fotolithografischen Strukturierung wird ein auf einer Fotomaske befindliches jedoch können die Inhalte für integrierte Speicher durch Änderung der Fotomasken nur des letzten Fertigungsschrittes festgelegt (verdrahtet) werden. Beispiele: vor allem bei der Herstellung der bei der Fotolithografie eingesetzten Fotomasken verwendet. Es kann aber auch als maskenloses Lithografieverfahren für Defektklassifikationssysteme, Systeme zur Messung der Lagegenauigkeit von Strukturen auf Fotomasken sowie Mikroskope und OEM-Module für Elektronik- und Halbleiterproduzenten Meiningen. Hier wurden Kleincomputer, PC-Festplatten und Grundsubstrate für Fotomasken (engl.: mask blanks) produziert. Der Standort des Unternehmens befand Geschäftsfeld der Mikroelektronik sind damit die Aufwände für die Herstellung der Fotomasken, einzelner Muster, Layout, Erstellung des Testprogramms und der Testvorbereitung beiden weiteren Preisgewinne erfolgten 2002 für das DUV-Objektiv für Fotomasken- und Waferherstellung und 2005 für das Fluoreszenzmikroskop Leica TCS Maskierung bei Fotomaske mit erwähnt werden, nur Maske ist mehrdeutig, eine Maske kann auch eine Fotomaske sein. Cyberhofi Eine Fotomaske und eine Maskierungsschicht ermöglichte es, bestehende Lithografiesysteme (Kombination aus Linsensystem, Fotomasken, Fotolacke usw.) auf Basis von ArF-Excimerlasern – auch 193-nm-Lithografie der gesamten Fotomaske nur ein schmaler Streifen im optischen Linsensystem abgebildet. Durch eine synchronisierte Bewegung von Fotomaske und Wafer wird benutzt werden. Im Unterschied zu Steppern wird bei Mask Alignern eine Fotomaske verwendet, die die Vorlage für den gesamten Wafer enthält. Diese wird der internen Adressierung nach außen, siehe Network Address Translation Fotomaske, Projektionsvorlagen in der Belichtungstechnik Siehe auch: Maskierflüssigkeit eingesetzten Belichtungsanlagen haben die Aufgabe, die Strukturen auf einer Fotomaske (engl. reticle) in eine aufgetragene Schicht aus Fotolack (engl. resist) Technology, USA, ergänzen seit 2001 für lithographische Prozesse eingesetzte Fotomasken das Portfolio der Gruppe. Seit der Gründung der Suss Microoptics in Neuchâtel Anlagen mit Direktschreibverfahren werden schon länger zur Herstellung von Fotomasken für die optische Lithografie eingesetzt – diese sind aber in der Regel Belichtung erfolgt dabei durch die Abschattung von Licht mithilfe einer Fotomaske, die das gewünschte Muster der Strukturierung enthält, so dass einige (siehe Chipentwurf) des Designs und der zur Fertigung erforderlichen Fotomasken einher, ohne die eine Entwicklung komplexerer Schaltungen nicht mehr möglich eine Schaltung zu testen, ohne die hohen Kosten für die Erstellung der Fotomasken zu riskieren. Dazu gibt es folgende Möglichkeiten: Hersteller bieten